硅片在经过切片、研磨、抛光、表面处理等不同的工序处理后，容易被吸附在表面的各种杂质所污染，导致硅片性能变差，甚至直接影响到硅片的稳定性和可靠性，所以硅片清洗就起到了至关重要的作用，目前硅片已经广泛采用硅片超声波清洗机来清洗。

超声波清洗技术是硅片行业主要的清洗方式，硅片超声波清洗机一般有清洗槽、烘干系统、漂洗槽、喷淋系统、抛动系统等组成，也可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗槽功能，适用于各种规格的单晶硅片、多晶硅太阳能硅片研磨、切割后的大批量清洗，独特的干燥处理技术，可以保证硅片清洗后干燥处理不留任何水痕。

硅片超声波清洗机具有清洗效果好，操作简单，能够有效去除硅片表面的颗粒、有机物、氧化层等污染物，而且不会破坏硅片表面特性。硅片超声波清洗机得到了半导体行业的认可和信赖，众多的硅片生产厂家都逐渐引进采用超声波清洗技术，以便于达到更高效的清洗效果。